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製版   STENCILS





NEO-FLマスク
NEO-FLマスク
従来のフラット加工スクリーンは、その平滑性の高さから、印刷材料に対しての密着性も高くなり、版離れが悪くなる場合がありました。スクリーン版と印刷材料の密着度が高いと、急激な版離れを起こし、ニジミなどの原因になってしまいます。
当社のNEOフラット加工は、印刷するエッジ部分はフラット加工、その他の部分はエンボス加工という2種類の表面処理を同一版の中に混在させる事で、印刷性を損なわず、版離れ改善を可能にしました。
NEO-FLマスクの特長

  1. 版離れの改善により印刷品質の向上が期待できます。
  2. フラット部分とエンボス部分を任意に設定できます。
  3. 直間フィルムに比べて耐久性が高く、ロングライフです。


NEO-FLマスクの用途

  1. スマートフォン・フラットパネルディスプレーなどの額縁印刷
  2. ガラス・鏡面材料への印刷
  3. 高粘度・高チクソインクの印刷


NEO-FLマスクの構造


空気の逃げ道がないため
材料と版が密着して版離れが悪い

従来のフラットマスク

エンボス部が空気の逃げ道を確保して版離れを改善。
静電気によるインキの飛散、材料と版の吸着を防ぐ。

NEO-FLマスク